機械拋光是傳統的拋光方法，機械拋光的操作是在類似研磨機的拋光機上進行，玻璃的機械拋光是指用低速旋轉的軟質彈性或黏彈性材料跑光盤，或高速旋轉的低彈性材料拋光盤，通過添加拋光劑，獲得具有一定研磨性質的光滑表面的加工方法。拋光時借助拋光材料使制品表面拋光，常見的拋光材料有木輪、棕輪、毛氈等。
玻璃的機械拋光機理，一般都認為是磨料對玻璃的機械作用，拋光不過是比湮沒更細而已，在拋光材料的作用下，發生了分子過程。
玻璃的拋光效率是以單位時間內玻璃的拋光量來表示的，它與研磨玻璃的表面質量、拋光盤的壓力和轉速、拋光粉的消耗量、介質的特性、玻璃表面的溫度和環境溫度、加速劑的使用、玻璃成分、跑光盤的材質等有關。
拋光使用的磨粒是1um以下的微細磨粒。拋光加工模型如圖所示。
采用化學侵蝕拋光玻璃時，除使用氫氟酸外，還要加入能使侵蝕生成物溶解的添加物。一般采用硫酸，硫酸具有酸性強、沸點高、不易揮發、室溫下比較穩定等特點，故通常將硫酸加入氫氟酸中配成拋光液。另外，因氫氟酸易揮發。侵蝕性強，故需要在密閉條件下進行拋光，同時要對拋光過程中產生的廢氣、廢水進行嚴格的處理。
影響化學拋光的因素如下。
1、玻璃的成分 一般情況下鈉鈣硅玻璃拋光比較困難，效果較差，含鉛玻璃化學拋光效果較好。
2、拋光液的成分 特別是拋光液中氫氟酸和硫酸的比例構成，要根據玻璃的成分進行調整。一般的鉛晶質玻璃配方中：7%~10.5%的氫氟酸和58%~65%的硫酸。對鈉鈣硅玻璃來說，水、氫氟酸、硫酸的體積比例為1：（1.62~2）：（2.76~3）。
3、拋光溫度 溫度過低則反應慢，溫度過高反映劇烈，一般以40~50℃為宜。
4、處理時間 處理時間短，拋光作用不完全，處理時間長則玻璃表面會有鹽類沉積物，因此具體的拋光時間，應依據拋光液的配比、處理溫度等來決定。一般情況下采用短時間多次拋光的方法來處理，每次處理時間在6~15s左右，處理次數不超過10次，若處理次數過多易在表面形成波紋等缺陷；每次酸處理完后都應將玻璃表面用水沖洗以去掉沉淀的鹽類。
化學機械拋光，1965年Walsh和Herzog首次提出了化學機械拋光技術，之后逐漸被應用。拋光時，旋轉的工件以一定的壓力施于隨工作臺儀一起旋轉的拋光墊上，而由亞微米或納米磨料和化學溶液組成的拋光液在工件與拋光墊之間流動，并在工件表面產生化學反應，工件表面形成的化學反應物由磨料的機械摩擦作用去除。在化學成膜與機械成膜的交替過程中，通過化學與機械的共同作用從工件表面去除極薄的一層材料，最終實現超精密表面加工。兩個過程的快慢綜合和一致性影響著工件的拋光速度和拋光質量。拋光速度主要由這兩個過程中速度較慢的過程所控制。因此，要實現高效率、高質量的拋光，必須使化學作用過程與機械作用過程進行良好的匹配。如果化學腐蝕作用大于機械磨削作用則在拋光面表面產生腐蝕坑、橘皮狀波紋；如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用則在拋光表面產生高損傷層和劃倒。
化學機械拋光利用氫氟酸溶液的化學腐蝕作用與機械拋光結合，使玻璃表面達到光滑。這在實質上有別于酸拋光（化學拋光）。在酸液中還添加一些時鹽類溶解或使鹽類緩慢溶解成細微粒的物質，如有的加NH4F和NH4HF2，有的加有機物如異戊基乙酸鹽和甘油，也有的添加一些氧化劑。用磨盤和拋光劑使玻璃表面凸出的部位機械拋光，同時玻璃又受到拋光劑中酸液的腐蝕，如此反復，直到玻璃變平滑。這是一種高效拋光法，但僅適用于平板玻璃和形狀簡單、表面無花紋的制品。
平板玻璃精細拋光機如圖所示，主要用于STN-LCD、TFT-LCD玻璃幾片或其他玻璃及硬脆材料的單面高精度、高效率拋光。主要特點：拋光盤、搖臂、拋光頭的驅動電機均采用變頻器調速，可實現緩啟動、定點停車；拋光液由上盤兩側及下盤中心通過電泵循環加注，滿足了拋光的工藝要求；壓力采用氣動三段加壓（反壓、自重、正壓）；本機的跑光盤由主電機通過渦輪蝸桿減速器驅動，主軸采用交叉滾子軸承，支撐剛度穩定、可靠；搖臂移動采用龍門式平行移動（滾動導軌副），滾動絲杠副由電機驅動，壓力均勻，速度穩定；拋光頭的翻轉方式采用恒力矩翻轉，極限位置機械鎖定，保證了運轉的平穩性和操作的安全性；電控方面采用可編程控制器（PLC）控制，可根據用戶要求設定運行程序；可實現動態接觸啟動。
跑光盤直徑：φ800~2000mm
拋光頭直徑：φ600~1800mm
搖臂移動幅度：±300mm
拋光頭相對跑光盤偏心量：0~120mm
拋光工件最小厚度：0.40mm
下拋光盤轉速：0~100r/mim
搖臂移動速度：0~150mm/s
拋光頭升降行程：60mm
拋光頭翻轉角度：90°
精密指標如下：
拋光盤平面度：0.02mm
拋光盤端面跳動公差：0.06mm
拋光頭平面度：0.02mm
噪聲指標：≤70dB(A)
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